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更新時間:2025-06-02
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大多數(shù)情況下,我們認為參比電極(RE)和工作電極(WE)之間施加的電壓就是在工作電極上施加的電壓。如圖一所示。

但是在光電化學循環(huán)伏安測試實際測試體系情況下,由于電解液存在一定的電阻Ru,Ru是參比電極到工作電極表面電雙層(doublelayer)一邊的溶液電阻。根據(jù)歐姆定律,這個Ru就會產(chǎn)生一定壓降,壓降的大小為Vir=I*Ru。這樣就造成工作電極上的實際電壓和相對參比電極而施加的電壓有所不同。如圖二所示。 
補償電阻Ru的大小可以通過直流電流快速遮斷法或者采用EIS方法進行測試。EIS要比直流電流快速折斷法更確定。電流快速折斷方法是早期沒有AC技術(shù)的時候出現(xiàn)的。自從有AC技術(shù)之后,EIS成為選擇的測試技術(shù)。使用EIS技術(shù)時,測試1K-100KHz頻率范圍內(nèi)的交流阻抗譜。在高頻區(qū),相位為零時的阻值就是要補償?shù)碾娊庖弘娮鑂u,如圖三所示。 
下面使用Zahner的Zennium系列電化學工作站做一些實際測試。測試時使用圖四所示的模擬元件電路。 
果和實際電路*一樣(考慮元件誤差)。Ru=100?,Rp=1995?,電容為993.8nF.如圖五所示。 


